高純?yōu)R射靶材是伴隨著半導體工業(yè)的發(fā)展而興起的，濺射靶材市場不僅僅在于電子行業(yè)，近年來砍濺射靶材的市場規(guī)模正在悄然發(fā)展，下面就讓我們起來了解下濺射靶材的難點及市場空間。
靶材的難點僅僅看純度么？
靶材性能影響鍍膜質(zhì)量，不同應用性能要求各有側(cè)重，通常半導體靶材純度高，平面顯示靶材面積大對均勻性、焊接率要求高，而多元素靶材對原料成分和組織均勻性提出更高要求。靶材原料高純金屬和陶瓷粉位于靶材產(chǎn)業(yè)鏈的高附加值環(huán)節(jié)，主要依靠日美進口，而內(nèi)少數(shù)金屬企業(yè)或靶材企業(yè)已開始突破鋁、銅、鉬等高純金屬原料和ITO 粉末等關鍵技術。
濺射靶材市場空間真的很小么？
半導體在靶材應用中約占10%；而顯示、磁記錄各占約30%，市場不容小覷。靶材需求隨顯示、半導體等市場需求增加，同時單個產(chǎn)品的用量也在提升。WSTS 統(tǒng)計16 年球靶材市場113.6 億美元，17-19 年復合增長率13%，則18 年球市場約合人民幣983 億元。安泰科預計18 年球金屬鈷和碳酸鋰的消費量分別為12.5、28.8 萬噸，假設18 年價格中樞分別為50、11 萬/噸，則鈷鋰市場合計941 億元，與靶材市場規(guī)模相當。
濺射靶材的市場發(fā)展空間還是相當巨大的，只要了解了市場詳情，就能把握住機遇。
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